特許

J-GLOBAL ID：200903079605980865

フッ素含有排水の処理方法

発明者： 伏野 俊則 ,  渋谷 吉昭
出願人/特許権者： アクアス株式会社
代理人 (1件)： 久保田 藤郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-108252
公開番号（公開出願番号）：特開2002-301479
出願日： 2001年04月06日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：

【要約】【課題】 半導体工場などより排出されるフッ素含有排水について、大幅な設備の改造を行うことなく、フッ素イオン濃度を低濃度(8mg/L程度)まで処理することができる上に、沈降性、圧密性(濃縮性)、脱水性に優れたスラリーを得ることのできるフッ素含有排水の処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 凝集沈澱法によりフッ素含有排水を処理するにあたり、フッ素含有排水に水溶性アルミニウム塩と共に、珪酸、アルミナ及び酸化鉄をそれぞれ20〜40重量%の割合で含有するように調製された無機質多孔性粉末を添加した後、pHを6〜7に調整し、生成した水不溶物を分離して、排水中のフッ素を除去することを特徴とする、フッ素含有排水の処理方法を提供する。

請求項（抜粋）：

凝集沈澱法によりフッ素含有排水を処理するにあたり、フッ素含有排水に水溶性アルミニウム塩と共に、珪酸、アルミナ及び酸化鉄をそれぞれ20〜40重量%の割合で含有するように調製された無機質多孔性粉末を添加した後、pHを6〜7に調整し、生成した水不溶物を分離して、排水中のフッ素を除去することを特徴とする、フッ素含有排水の処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/58 ZAB ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52

FI (3件)：

C02F 1/58 ZAB M ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 J

Fターム (22件)：

4D015BA08 ,  4D015BA11 ,  4D015BB13 ,  4D015BB16 ,  4D015CA17 ,  4D015DA04 ,  4D015DA05 ,  4D015DA08 ,  4D015DA12 ,  4D015DA31 ,  4D015DA32 ,  4D015DA35 ,  4D015DB03 ,  4D015DC03 ,  4D015EA14 ,  4D015EA17 ,  4D015EA32 ,  4D015FA03 ,  4D015FA19 ,  4D038AA08 ,  4D038AB42 ,  4D038BB18