特許

J-GLOBAL ID：200903079612323683

縦型ウエハ研磨装置

発明者： 真田 友宏 ,  稲葉 高男 ,  松下 治
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-054660
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250457
出願日： 1995年03月14日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】ウエハの平坦化の高精度化及び洗浄効率の向上を図ると共に、省スペース化を実現する為の縦型ウエハ研磨装置を提供する。【構成】被研磨ウエハWは吸着パッド32に縦姿勢で保持されるとともに、研磨布36を被覆した縦型の研磨盤30に押し付けられる。そして、吸着パッド32と研磨盤30の研磨面との間にスラリーを供給しつつ、両者を相対回転摺動させることによってウエハWを研磨している。スラリーは容易に下方へ流れ落ちるので、研磨切り屑を排出する機能が向上する。これにより、研磨切り屑によってウエハに傷が付くのを防ぐことができ、平坦化精度を高めるとともに研磨効率を上げることができる。また、研磨後の洗浄手段52、53、54、洗浄後の乾燥手段56、及び各工程間のウエハの搬送系14においても、ウエハWの姿勢を縦向きに保っていることにより、洗浄終了後の洗浄液の切れが良くなる。

請求項（抜粋）：

研磨対象となるウエハを鉛直縦型状態で吸着保持する吸着パッドと、前記吸着パッドと対面する研磨面を有する縦型の研磨盤と、前記吸着パッドと前記研磨盤の研磨面との間にスラリーを供給するスラリー供給手段と、を備え、前記スラリー供給手段によってスラリーを供給しつつ、前記吸着パッドと前記研磨盤とを相対回転摺動させて、前記ウエハを縦向きの姿勢で研磨することを特徴とする縦型ウエハ研磨装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351 ,  B24B 37/00

FI (4件)：

H01L 21/304 321 E ,  H01L 21/304 321 A ,  H01L 21/304 351 C ,  B24B 37/00 F