特許

J-GLOBAL ID：200903079620037550

ポリエチレン組成物の製造法

発明者： 矢野 一憲 ,  柴崎 智文
出願人/特許権者： 三菱油化株式会社
代理人 (1件)： 山本 隆也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-167994
公開番号（公開出願番号）：特開平6-009788
出願日： 1992年06月25日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：

【要約】【目的】 インフレーション成形の高速度成形の安定性に優れ、得られるフィルムにゲルの発生の無い、ポリエチレン組成物の製造法の提供。【構成】 チーグラー触媒を用いる2段重合により得られた特定の高分子量ポリエチレンと特定の低分子量ポリエチレンからなる、平均粒径の比較的大きなポリエチレンを、ラジカル発生剤とともに押出機にて特定の条件下に混練して、ポリエチレン組成物を製造する。【効果】 上記目的が達成される。

請求項（抜粋）：

チーグラー触媒を用いる2段重合により得られた高分子量のポリエチレン(A)と低分子量のポリエチレン(B)からなる平均粒径が300〜1000μmのポリエチレンを、ラジカル発生剤とともに押出機にて混練して、メルトインデックス0.02〜0.1g/10分、分子量分布指数(Q値)10〜20、密度0.910〜0.970g/cm3 のポリエチレン組成物を製造する方法において、該ポリエチレン(A)/該ポリエチレン(B)の混合割合が重量比で70/30〜40/60、該ポリエチレン(A)は、重量平均分子量(Mw)が10万〜100万、Q値が2〜10、かつ密度が0.900〜0.940g/cm3 、該ポリエチレン(B)はMwが0.2万〜10万、Q値が3〜8、かつ密度が0.930〜0.980g/cm3 であり、ラジカル発生剤は、予めポリエチレンに溶融混練した10〜300倍濃度のマスターバッチとして、該ポリエチレン(A)と該ポリエチレン(B)からなるポリエチレンに対して最終濃度5〜100ppmとなる様に添加され、混練温度160〜290°Cで、ラジカル発生剤の半減期の3〜30倍の滞留時間、押出機で混練することを特徴とする、ポリエチレン組成物の製造法。

IPC (3件)：

C08J 3/22 CES ,  C08K 5/14 LDD ,  C08L 23/04 LCD