特許

J-GLOBAL ID：200903079622104670

パターン形成装置およびそれを用いたリソグラフィ装置

発明者： ラトビッチ・マーク ,  和田 恭雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-043508
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236907
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】 電子線リソグラフィのように自由度が高く、かつホトリソグラフィ技術のように一定時間に処理できるウエハ枚数は十分に多くできる技術を可能にすること。【解決手段】 電極、反射板および支持梁からなり、反射板と、電極の間に電圧を印加することにより支持梁を中心とした反射板の機械的な変位を起こさせる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された複数の電極と、該電極に対応する位置に配置されるとともに該電極に照射された光を反射または透過可能に構成された変位可能な電極、両電極間に選択的に電位を付与するための電気回路よりなり、前記変位可能な電極が前記電極間に選択的に付与された電位に対応して所定のパターンに対応した変位をすることを特徴とする集積化パターン形成装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G02B 26/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 Z ,  G02B 26/08 E ,  H01L 21/30 502 P