特許

J-GLOBAL ID：200903079653522097

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 丹 史郎 ,  青合 利明 ,  藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-167405
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015161
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 高解像力を有し、孤立パターンの寸法再現性を改良した、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基が特定の各々別の酸分解性基で置換されている樹脂を2種、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(d)溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(I)で示される基で置換されている樹脂A、(b)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(II)または(III)で示される基で置換されている樹脂B、(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(d)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1 は、炭素数1〜4個のアルキル基から選ばれた置換基を表す。Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及び珪素原子のうちの少なくとも1つの原子を含有する有機基、アミノ基、アンモニウム基及びメルカプト基からなる群から選ばれた原子団を表す。nは1から4までの自然数を表す。R4 は、炭素数1〜4個の直鎖、分岐あるいは環状のアルキル基を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R