特許
J-GLOBAL ID：200903079659117615
ウェハ検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193450
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040629
出願日： 1997年07月18日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウェハ上に形成された回路パターンの検査すべき地点を容易に認識でき、且つ回路パターンを高精度に検査する。【解決手段】 ウェハ検査装置にコンフォーカル顕微鏡と非コンフォーカル顕微鏡を設け、回路パターンに関するこれら2つの顕微鏡像を合成して、1つのモニターの2分割された画面上に、それぞれ同時に表示する。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハ上に形成された回路パターンを光学顕微鏡によって検査するウェハ検査装置において、前記光学顕微鏡は、コンフォーカル顕微鏡と非コンフォーカル顕微鏡から構成され、前記コンフォーカル顕微鏡からの像と、非コンフォーカル顕微鏡からの像と、を2分割されたモニター画面上にそれぞれ同時に表示することを特徴とするウェハ検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 J
, G02B 21/00
