特許
J-GLOBAL ID：200903079668872477
インプリント方法およびインプリント装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和泉 良彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-084681
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289560
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：
【要約】【課題】広い面積の鋳型パタンを均等にプレスすることを可能にし、プレス面全域において均一性の高い鋳型パタンの転写が行えるインプリント方法及びインプリント装置を提供すること。【解決手段】ウェハ5上に成膜されたウェハ加工用膜6に、鋳型基板3上に形成された鋳型パタン4をプレスして、鋳型パタン4をウェハ加工用膜6に転写するインプリント方法及びインプリント装置において、プレスする方向に対する鋳型パタン4の高さを、プレス面の中央から周縁にかけて減少させて、プレス時のプレス面におけるプレス圧力の不均一性を、前記高さの減少が無い場合に比べて低下させることを特徴とするインプリント方法及びインプリント装置を構成する。
請求項（抜粋）：
ウェハ上に成膜されたウェハ加工用膜に、鋳型基板上に形成された鋳型パタンをプレスして、該鋳型パタンを該ウェハ加工用膜に転写するインプリント方法において、プレスする方向に対する該鋳型パタンの高さに場所による高低差を与えて、プレス時のプレス面におけるプレス圧力の不均一性を、該高低差が無い場合に比べて低下させることを特徴とするインプリント方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30
, B30B 15/02 E
