感放射線性樹脂組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-327425
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131915
出願日： 2000年10月26日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、解像力及び保存性に優れ、エッジラフネスが改善した感放射線性レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤、及び(D)分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が変化する、シリコン原子を含有する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤、及び、(D)分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08K 5/16 , C08L101/02 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08K 5/16 , C08L101/02 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Fターム (56件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AA10 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB33 , 2H025CB34 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 4J002BE041 , 4J002BG071 , 4J002BH001 , 4J002BJ001 , 4J002BQ001 , 4J002CP031 , 4J002EB006 , 4J002EN027 , 4J002EN107 , 4J002EN117 , 4J002EN136 , 4J002EQ016 , 4J002ES006 , 4J002ES007 , 4J002EU017 , 4J002EU027 , 4J002EU047 , 4J002EU057 , 4J002EU077 , 4J002EU117 , 4J002EU127 , 4J002EU137 , 4J002EU147 , 4J002EU167 , 4J002EU186 , 4J002EU216 , 4J002EU237 , 4J002EV087 , 4J002EV187 , 4J002EV216 , 4J002EV237 , 4J002EV246 , 4J002EV257 , 4J002EV296 , 4J002EV327 , 4J002EW176 , 4J002EY006 , 4J002EZ006 , 4J002FD206 , 4J002GP03

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