特許

J-GLOBAL ID：200903079671428952

縦型拡散・CVD炉

発明者： 遠目塚 幸二 ,  清水 昭生
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258341
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067577
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【目的】 外被断熱層の余熱を吸収して降温速度を高める。【構成】 外被断熱層1とヒータ層2との間に中空エア断熱層10を設け、この中空エア断熱層10のエア導出側に、ラジエータ8に連通する中空エア断熱層内熱排気ゲート12を設ける。

請求項（抜粋）：

外被断熱層(1)を有するヒータ層(2)内に反応室(3)を収設し、この反応室(3)内にウェーハ(4)を積載したウェーハ積載治具(5)を挿入し、前記ヒータ層(2)と反応室(3)との間にエア流路(6)を設け、このエア流路(6)にヒータ内熱排気ゲート(7),ラジエータ(8)を通して排気する排気装置(9)を接続してなる縦型拡散・CVD炉において、前記外被断熱層(1)とヒータ層(2)との間に中空エア断熱層(10)を設け、この中空エア断熱層(10)のエア導出側に、前記ラジエータ(8)に連通する中空エア断熱層内熱排気ゲート(12)を設けてなる縦型拡散CVD炉。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/54 ,  C30B 25/10 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31