特許

J-GLOBAL ID：200903079671567863

フォトマスク及びその製造方法

発明者： 染谷 進 ,  竹内 康次 ,  渡邉 智貴
出願人/特許権者： 東京プロセスサービス株式会社 ,  日本化研株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-367135
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169263
出願日： 2000年12月01日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 耐擦過性、耐溶剤性、ガラス板等の透明板に対する密着性、画像の切れ等に優れ、しかも、寸法精度の安定化、高精細な部品作製のための高解像度化、量産化に伴う耐久性等の諸要求を同時に満足させることができるフォトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のフォトマスクは、ガラス板1上に、酸溶解性の紫外線遮光層2、耐酸性の感光性樹脂層3が順次形成され、紫外線遮光層2にはエッチングにより紫外線遮光性の画像2aが形成され、感光性樹脂層3には画像2aと同一パターンの画像3aが形成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明板上に、酸溶解性の紫外線遮光層を形成し、該紫外線遮光層に紫外線遮光性の画像を形成してなることを特徴とするフォトマスク。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521

FI (6件)：

G03F 1/08 G ,  G03F 1/08 J ,  G03F 1/08 K ,  G03F 1/14 G ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521

Fターム (31件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA06 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AB08 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA19 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H025FA40 ,  2H095BC05 ,  2H095BC06 ,  2H095BC08 ,  2H095BC10 ,  2H095BC11 ,  2H095BC17 ,  2H096AA24 ,  2H096BA02 ,  2H096BA05 ,  2H096BA10 ,  2H096CA05 ,  2H096CA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA17 ,  2H096JA04

引用特許：

審査官引用 (7件)

• レチクルおよびレチクル製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-092517   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭60-149045
  
• 特開昭63-293820
  
• フォトマスクの製造方法およびフォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-328159   出願人：株式会社日立製作所
• 露光用マスクとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-194885   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭60-149045
  
• 特開昭63-293820