特許
J-GLOBAL ID：200903079673738878
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132927
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312064
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：
【要約】【課題】 感度、解像度及び耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、前記組成物の使用により、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法並びに良好な形状と特性のパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】 一般式(1)【化1】(式中、R1は、ハロゲン原子又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、複数ある場合は、各々同一でも異なっていてもよく、xは0〜3の整数であり、R2は酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシド(A)と、光により酸を発生する化合物(B)を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、このポジ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、アルカリ水溶液を用いて現像する工程を含むパターンの製造法並びにこの製造法により得られるパターンを表面保護膜又は層間絶縁膜として有してなる電子部品。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】(式中、R1は、ハロゲン原子又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、複数ある場合は、各々同一でも異なっていてもよく、xは0〜3の整数であり、R2は酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシド(A)と、光により酸を発生する化合物(B)を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601
, C08G 65/38
, C08K 5/36
, C08L 71/12
, H01L 21/027
, H01L 21/312
G03F 7/039 601
, C08G 65/38
, C08K 5/36
, C08L 71/12
, H01L 21/312 D
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA10
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 4J002CH071
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J005AA23
, 4J005BA00
, 5F058AC07
, 5F058AC08
, 5F058AE04
, 5F058AF04
