特許
J-GLOBAL ID:200903079679798007
高分子材料、光導波路およびその形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-266422
公開番号(公開出願番号):特開2000-095816
出願日: 1998年09月21日
公開日(公表日): 2000年04月04日
要約:
【要約】【課題】 近赤外域での透明性に優れた高分子材料であって、従来よりも耐熱性および低吸水性に優れた材料。【解決手段】 下記(1)で表される繰り返し単位を含んでいる。【化11】
請求項(抜粋):
下記(1)で表される繰り返し単位を含む高分子材料。【化1】
IPC (6件):
C08F 8/32
, C08F 8/48
, C08F 20/14
, C09D133/12
, G02B 6/13
, G02B 6/12
FI (6件):
C08F 8/32
, C08F 8/48
, C08F 20/14
, C09D133/12
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
Fターム (18件):
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA00
, 2H047TA43
, 4J038CG141
, 4J038CH031
, 4J100AL03P
, 4J100BC66H
, 4J100CA01
, 4J100HA45
, 4J100HA61
, 4J100HC43
, 4J100HC46
, 4J100JA32
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