特許
J-GLOBAL ID:200903079679798007

高分子材料、光導波路およびその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-266422
公開番号(公開出願番号):特開2000-095816
出願日: 1998年09月21日
公開日(公表日): 2000年04月04日
要約:
【要約】【課題】 近赤外域での透明性に優れた高分子材料であって、従来よりも耐熱性および低吸水性に優れた材料。【解決手段】 下記(1)で表される繰り返し単位を含んでいる。【化11】
請求項(抜粋):
下記(1)で表される繰り返し単位を含む高分子材料。【化1】
IPC (6件):
C08F 8/32 ,  C08F 8/48 ,  C08F 20/14 ,  C09D133/12 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (6件):
C08F 8/32 ,  C08F 8/48 ,  C08F 20/14 ,  C09D133/12 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (18件):
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00 ,  2H047TA43 ,  4J038CG141 ,  4J038CH031 ,  4J100AL03P ,  4J100BC66H ,  4J100CA01 ,  4J100HA45 ,  4J100HA61 ,  4J100HC43 ,  4J100HC46 ,  4J100JA32

前のページに戻る