特許

J-GLOBAL ID：200903079683923533

自動暴露制御付きのレントゲン装置に使用するカセット組立体

発明者： ルデイ・バン・デン・ベルグ ,  ユルゲン・バン・リンベルゲン ,  マンフレート・シユミツト ,  ハインツ・バツクハウス ,  エルンスト・ビデマン
出願人/特許権者： アグフア-ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189360
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107856
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 X線吸収の変動を小さくする。【解決手段】 管側とカバー、及び増感スクリーンを有するX線カセットを備えたカセット組立体であって、カセット組立体が予め決められたX線吸収を有するように、カセット組立体が、増感スクリーンに適合した補償要素を更に備える前記カセット組立体。

請求項（抜粋）：

管側とカバーとを有するX線カセット、及び増感スクリーンを備えたカセット組立体であって、予定されたX線吸収を有するカセット組立体を持つように前記増感スクリーンに適合した補償要素を更に備える前記カセット組立体。

IPC (6件)：

G03B 42/02 ,  A61B 6/00 300 ,  A61B 6/00 320 ,  G03B 42/04 ,  G21K 4/00 ,  H05G 1/44

FI (6件)：

G03B 42/02 Z ,  A61B 6/00 300 W ,  A61B 6/00 320 Z ,  G03B 42/04 A ,  G21K 4/00 A ,  H05G 1/44 A

Fターム (25件)：

2G083AA02 ,  2G083BB03 ,  2G083CC10 ,  2G083DD20 ,  2G083EE10 ,  2H013AA21 ,  2H013BA02 ,  4C092AB03 ,  4C092AB15 ,  4C092AC01 ,  4C092BE04 ,  4C092CC03 ,  4C092CD06 ,  4C092CE16 ,  4C092CF25 ,  4C092CF33 ,  4C092CF43 ,  4C092CJ30 ,  4C093AA03 ,  4C093CA16 ,  4C093CA34 ,  4C093EB04 ,  4C093FA18 ,  4C093FA43 ,  4C093FA45