薄膜太陽電池製造用プラズマCVD装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-183324
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011637
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】大面積の薄膜太陽電池を低コストで製造するために好ましく用いられ得るプラズマCVD装置を提供する。【解決手段】薄膜太陽電池製造用プラズマCVD装置は、多角形の平面形状を有する基板搬送室20の対応する辺に配置されていて互いに通気状態に連結された複数の傾斜型または縦型のプラズマ反応室30bを備え、各プラズマ反応室30bと基板搬送室20との境界に沿って回転軸33bが設けられており、回転軸33bの各々には基板支持板31bが回転可能に連結されていて、その基板支持板31bの各々は対応するプラズマ反応室30bと基板搬送室20との間の仕切り板として作用し得る。

請求項（抜粋）：

互いに通気状態に連結された複数のプラズマ反応室と、それらの反応室へ薄膜太陽電池用基板を配置しかつ取出すための基板搬送室とを備え、前記基板搬送室は実質的に多角形の平面形状を有していて、前記基板を実質的に水平状態で受入れるようにされており、前記複数のプラズマ反応室の各々は、前記基板搬送室の前記多角形の対応する一辺に沿って配置されていて、45°〜135°の範囲内の傾斜角を有する傾斜型または縦型のプラズマ反応室であり、前記プラズマ反応室の各々が前記基板搬送室の前記多角形と接する一辺に沿って回転軸が設けられており、前記回転軸の各々には前記基板を支持するための基板支持板が連結されていて、前記基板支持板は前記回転軸のまわりに0°〜135°の傾斜角の範囲内で回転可能にされており、前記基板支持板の各々は対応する前記プラズマ反応室と前記基板搬送室との間の仕切り板としても作用することを特徴とする薄膜太陽電池製造用プラズマCVD装置。

IPC (4件)：

C23C 16/50 , C23C 16/44 , H01L 21/205 , H01L 31/04

FI (4件)：

C23C 16/50 , C23C 16/44 B , H01L 21/205 , H01L 31/04 T

Fターム (24件)：

4K030FA01 , 4K030GA12 , 4K030KA01 , 4K030KA04 , 4K030KA14 , 4K030KA24 , 4K030LA16 , 5F045AA08 , 5F045BB08 , 5F045CA13 , 5F045DP07 , 5F045DP09 , 5F045DQ17 , 5F045EB08 , 5F045EC01 , 5F045EH04 , 5F045EM02 , 5F045EM10 , 5F051BA12 , 5F051BA14 , 5F051CA15 , 5F051CA24 , 5F051CB12 , 5F051CB30

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