特許
J-GLOBAL ID：200903079688530696
ステージ移動機構
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-011827
公開番号（公開出願番号）：特開平8-197364
出願日： 1995年01月27日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】【目的】 ステージの移動によっても磨耗粉の発生を極端に少なくすることができ、精密なステージの移動を可能とする移動機構を実現する。【構成】 ステージ2をX方向に移動させる場合、ステージ2に固定されたセンターガイド6bは、センターガイド6a,6cに対してX方向に移動する。この際、コロ15はシャフト17を中心に回転し、コロ15の外周はリテーナ16と接触せずに移動するので、リテーナ16から摩耗粉が発生しない。また、リテーナ16は、両端にあるベアリング18が保持しているので、ベアリング18はリテーナ16全体の姿勢を維持しながらアーム5y上を転がり移動する。従って、アーム5yの上面とリテーナ16とは接触せずに移動するので、両者から摩耗粉は発生しない。
請求項（抜粋）：
ステージと、直線状に移動するアームと、アームの駆動手段と、ステージに固定されたセンターガイドと、ステージのセンターガイドに対向してアームに固定されたセンターガイドと、ステージのセンターガイドとアームのセンターガイドとの間に設けられた回転体と、回転体の位置を規制するリテーナとを備えており、アームを移動させることによりアームのセンターガイドと回転体を介してステージのセンターガイドを押し、ステージを移動させるように構成したステージ移動機構において、回転体をリテーナによって支持し、回転体の外周がリテーナと接触せずに移動できるように構成すると共に、リテーナの両端を回転手段によって保持し、リテーナがアーム面と接触しないように構成したステージ移動機構。
IPC (5件)：
B23Q 5/44
, B60T 8/54
, G05D 3/00
, H01L 21/027
, H01L 21/68
