特許
J-GLOBAL ID：200903079695026570
プラズマ溶射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052175
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255831
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ溶射装置において、膜厚,膜質制御能力の高いプラズマ溶射装置を得ることを目的とする。【構成】 プラズマ溶射装置において、プラズマアーク放電3を瞬間発光分光器6にて測定し、解析・制御部7で解析を行い、溶射母材とキャリアガスのプラズマアーク放電強度比から溶射母材供給量およびキャリアガス流量の変化を検知する。また、解析・制御部7で、この検知結果を元にフィードバック信号の作成を行い、プラズマ溶射装置の本体1にフィードバックをかけることにより制御性が向上するようにしたことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
溶射母材の粉末をキャリアガスで搬送し、高周波電界によりプラズマアーク放電としてトーチ部より被溶射基板に溶射するプラズマ溶射装置において、前記溶射母材とキャリアガスのプラズマアーク放電強度比を求める発光スペクトル解析手段を設けたことを特徴とするプラズマ溶射装置。
IPC (2件)：
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