特許
J-GLOBAL ID：200903079696246328
表面形状計測方法および表面形状計測装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高岡 一春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204436
公開番号（公開出願番号）：特開平6-026832
出願日： 1992年07月07日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 被測定物の表面に照射した光線の反射光を利用してリニック干渉計で表面形状を計測する計測方法において、被測定物側対物レンズの合焦点位置から被測定物側対物レンズまでの光路長の変化に応じて参照面と参照面側対物レンズとを同時に光軸方向に移動させ、被測定物表面からの反射光と参照面からの反射光が光干渉を生じるように光路長を補正して実用状態に近い接触条件下における被測定物の表面形状を計測する。【構成】 被測定物の表面に照射した光線の反射光を利用して被測定物の表面形状を計測するリニック干渉計を備えた表面形状計測装置において、参照面と参照面側対物レンズとを同時に光軸方向に移動する移動手段を設けて、被測定物表面からの反射光と参照面からの反射光が光干渉を生じるように光路長を補正し、被測定物の表面形状を計測する表面形状計測方法とその装置
請求項（抜粋）：
被測定物の表面に照射した光線の反射光を利用してリニック干渉計で被測定物の表面形状を計測する計測方法において、リニック干渉計の被測定物側対物レンズの合焦点位置から被測定物側対物レンズまでの光路長の変化に対応して、リニック干渉計の参照面と参照面側対物レンズとを同時に光軸方向に移動させ、被測定物表面からの反射光と参照面からの反射光が光干渉を生じるように光路長を補正して、被測定物の表面形状を計測することを特徴とする表面形状計測方法
IPC (4件)：
G01B 11/24
, G01B 9/02
, G01B 11/30 102
, G11B 5/84
