特許
J-GLOBAL ID：200903079698129418
フォトマスクの検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-003455
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188580
出願日： 1992年01月13日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスクのパターンサイズ、複雑さに拘わらず、その欠陥の有無を高速且つ高精度で検査する。【構成】 本発明は、レンズ系の結像理論が数学のフーリエ変換理論に合致する点に鑑み、フーリエ変換レンズ4,6と空間周波数フィルタ5とを組み合わせたマッチドフィルタリング光学系を組み、フォトマスク3を経た光のフーリエ変換分布と予めパターン原図に対応したフーリエ変換分布図とを空間周波数フィルタ5上で照合した後、そのフーリエ逆変換を行うことにより、該フォトマスク3の欠陥の有無を判定するようにしたものである。
請求項（抜粋）：
フォトマスクに形成されたパターンの欠陥検査を非接触式に行う検査方法において、光源から出射される光を平行ビームに変換するスペイシャルフィルタと、変換された平行ビームをその焦点に集光した後に再び平行ビームに変換して出射する一対のフーリエ変換レンズとを含んでマッチドフィルタリング光学系を組み、前記フォトマスクをスペイシャルフィルタと一方のフーリエ変換レンズとの間に配置して前記平行ビームの一部を回折させるとともに、前記焦点位置に当該フォトマスクのパターン原図に対応するフーリエ変換分布図を形成した透光性の空間周波数フィルタを配し、この空間周波数フィルタを経て他方のフーリエ変換レンズから出射される光量分布を検出することで、前記フォトマスクの欠陥の有無を判定するようにしたことを特徴とするフォトマスクの検査方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
