特許
J-GLOBAL ID：200903079699257207
レジスト組成物およびそれを用いたパタン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-045254
公開番号（公開出願番号）：特開平8-240907
出願日： 1995年03月06日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【目的】製造直後においても、長期保存後においても微粒子が少なく、保存安定性に優れた化学増幅系レジストを提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂と酸分解性基(例:テトラヒドロピラニルオキシ基)を含むポリビニルフェノールと化1で示される水溶性酸前駆体を、ピルビン酸アルキル,エチル-3-エトキシプロピオネート,酢酸ブチルあるいは酢酸アミルの中から選ばれる少なくとも一種類の溶媒に溶解し、レジスト組成物とした。【化1】
請求項（抜粋）：
酸を触媒とし反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体,水溶性酸前駆体および溶媒を含む化学増幅系レジスト組成物において、前記溶媒がピルビン酸アルキル,エチル-3-エトキシプロピオネート,酢酸ブチルあるいは酢酸アミルの中から選ばれる少なくとも一種類であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
, H01L 21/312
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/312 A
, H01L 21/30 502 R
