特許

J-GLOBAL ID：200903079703779566

ギ酸の製造方法

発明者： 大森 秀樹 ,  加藤 一郎
出願人/特許権者： 丸善石油化学株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-100454
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288137
出願日： 2000年04月03日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【解決手段】 担体に担持された金属ルテニウムと塩基性有機化合物の存在下、超臨界状態にある二酸化炭素と水素とを反応させることを特徴とするギ酸の製造方法。【効果】 水素化等に汎用されている安価な触媒を使用でき、また触媒の分離が容易であるため、製造工程が簡略化でき、触媒の損失も少ない。

請求項（抜粋）：

担体に担持された金属ルテニウムと塩基性有機化合物の存在下、超臨界状態にある二酸化炭素と水素とを反応させることを特徴とするギ酸の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 51/00 ,  B01J 23/46 301 ,  C07C 53/02 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 51/00 ,  B01J 23/46 301 X ,  C07C 53/02 ,  C07B 61/00 300

Fターム (15件)：

4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA23 ,  4H006BA51 ,  4H006BB14 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC19 ,  4H006BC34 ,  4H006BD10 ,  4H006BE20 ,  4H006BE41 ,  4H039CA65 ,  4H039CB20 ,  4H039CL00