特許
J-GLOBAL ID:200903079705467774
膜厚測定方法および膜厚測定装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-080586
公開番号(公開出願番号):特開2003-279324
出願日: 2002年03月22日
公開日(公表日): 2003年10月02日
要約:
【要約】【課題】フーリエ変換を用いた場合特有の誤差の発生を抑えた非接触膜厚測定方法及び装置を提供するとそのシステムが望まれていた。【解決手段】薄膜の反射光の干渉現象を利用した単層膜の膜厚測定方法および装置であって、分光反射率データをフーリエ変換により有限個サンプリングしてそのスペクトルから膜厚を求める際に、ピークのスペクトルから同サンプリング数だけ離れたスペクトル対のうち、スペクトル対どうしの非対称性が閾値以下でかつピークから最も遠いスペクトル対を基準としてフィルタリングを行ったスペクトルを用いて膜厚を求めることを特徴とする膜厚測定方法および装置を提供する。
請求項(抜粋):
薄膜の反射光の干渉現象を利用した単層膜の膜厚測定方法であって、分光反射率データをフーリエ変換により有限個サンプリングしてそのスペクトルから膜厚を求める際に、ピークのスペクトルから同サンプリング数だけ離れたスペクトル対のうち、スペクトル対どうしの非対称性が閾値以下でかつピークから最も遠いスペクトル対を基準としてフィルタリングを行ったスペクトルを用いて膜厚を求めることを特徴とする膜厚測定方法。
Fターム (14件):
2F065AA30
, 2F065CC00
, 2F065CC31
, 2F065FF51
, 2F065GG02
, 2F065LL03
, 2F065LL26
, 2F065LL67
, 2F065QQ01
, 2F065QQ03
, 2F065QQ16
, 2F065QQ26
, 2F065QQ29
, 2F065QQ42
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