特許

J-GLOBAL ID：200903079716571042

異物等の欠陥検査方法およびその装置

発明者： 宍戸 弘明 ,  松本 俊一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-086280
公開番号（公開出願番号）：特開平10-282007
出願日： 1997年04月04日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】ホトマスク等の回路パターン付基板、特に転写解像度の向上等を目的とした位相シフト膜を有するレチクル上にレチクル上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物等の欠陥等の欠陥を安定して検出する装置を提供することにある。【解決手段】試料表面側および試料裏面側から斜方照明を行い、試料表面側光学系で、発生する散乱光を集光、照明方向別に波長分離して、フーリエ変換面上に設けた空間フィルタにより回路パターンからの回折光の一部を遮光、検出器上に結像させる検出光学系(4)と、検出器の検出値をそれぞれ3種類のしきい値で2値化する処理回路と、2値化結果の一部を論理反転する処理回路と、論理積処理する回路と、論理和処理する回路等から構成される。

請求項（抜粋）：

遮光膜、光半透過膜、あるいは光透過膜で形成されたパターンを有する透明または半透明基板試料の表面に付着した異物等の欠陥を検出する異物等の欠陥検査方法であって、前記試料をパターン面の側から第1の照明系で照明して前記試料から発生する散乱光および回析光を集光して第1の検出器上に結像し第1の信号を得、前記試料を前記パターン面と反対側の面から第2の照明系で照明して前記試料から発生する散乱光および回析光を集光して第2の検出器上に結像し第2の信号を得、前記第1の信号と前記第2の信号とをそれぞれ複数の閾値で2値化してそれぞれ複数の2値化信号を得、該得たそれぞれの複数の2値化信号に基づいて前記透明または半透明基板試料の表面に付着した異物等の欠陥を検査することを特徴とする異物等の欠陥検査方法。