特許
J-GLOBAL ID：200903079730527943
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-170122
公開番号（公開出願番号）：特開平8-010673
出願日： 1994年06月28日
公開日（公表日）： 1996年01月16日
要約：
【要約】【目的】 基板処理液の取扱いの簡略化と基板処理品質の維持とを図る。【構成】 基板処理装置10は、純水で満たされている処理槽12へのHF水溶液の供給が開始されて処理槽12内におけるHF水溶液置換および希釈HF水溶液の調製が開始されると、その時の時間t1 からの経過時間Ts の計時を開始する。そして、処理槽12が希釈HF水溶液で置換されて希釈済みのHF水溶液が処理槽12からオーバーフローすると、処理槽12への純水およびHF水溶液の供給を停止してそのままの状態を維持する。そして、オーバーフローした時間t3 で希釈HF水溶液の希釈濃度を検出し、その結果に応じて基板浸漬時間THFを定める。次いで、この基板浸漬時間THFが時間t1 から経過すると、純水のみの供給を開始して処理槽12を純水置換し、基板の浸漬処理を中止し純水洗浄を行なう。
請求項（抜粋）：
基板を収納し、純水と基板処理液の供給を受けて該基板処理液の希釈溶液に前記基板を浸漬して処理するための処理槽と、該処理槽に純水を供給する純水供給手段と、前記処理槽に基板処理液を供給する基板処理液供給手段と、該基板処理液供給手段と前記純水供給手段とを制御して、前記純水と基板処理液との前記処理槽への供給および供給停止を図り、前記処理槽を純水で満たした後に前記処理槽から槽内液がオーバーフローするように前記処理槽における純水を前記基板処理液で置換して、前記基板処理液を希釈調製する制御手段とを有する基板処理装置であって、前記制御手段は、前記基板処理液供給手段により供給された基板処理液による前記処理槽における純水の置換が開始されてからの経過時間を計時する計時部と、前記基板処理液の濃度と前記処理槽での基板の基板浸漬時間とを対応付けて記憶する記憶部と、前記基板処理液の濃度を検出する基板処理液濃度検出部と、該基板処理液濃度検出部の検出した前記基板処理液の希釈調製時における基板処理液濃度と前記記憶部の記憶結果とに応じて、前記希釈調製済みの基板処理液による基板浸漬時間を決定する浸漬時間決定部と、前記計時部が該決定した基板浸漬時間の経過を計時すると、前記希釈調製済みの基板処理液での基板浸漬を中止する基板浸漬中止部とを備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
B05C 3/109
, H01L 21/304 341
, H01L 21/306
