特許

J-GLOBAL ID：200903079736195314

投影露光装置

発明者： 石井 勇樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-173784
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026345
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 レチクルの平面度等が悪化しているような場合でも良好な結像特性が得られる投影露光方法を提供する。【解決手段】 露光用の照明光のもとでレチクルRのパターンの一部が投影光学系PLを介してウエハW上に投影された状態で、レチクルR及びウエハWを投影光学系PLに対して同期走査することで露光が行われる。レチクルRの斜め上方に配置された面形状検出系30の検出領域にレチクルRのパターン面を通過させることで、そのパターン面の面形状を計測し、この計測結果よりそのパターン面上のパターンの投影像の横ずれ量を算出する。このように算出される横ずれ量分だけ投影光学系PLのディストーションの計測値を補正し、補正後のディストーションに基づいて結像特性の補正を行う。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に露光する投影露光方法において、前記マスクのパターン面の面形状を予め測定して記憶しておき、該記憶してある面形状に基づいて前記投影光学系による前記マスクのパターン像の結像位置を部分的に補正しながら露光を行うことを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-090350   出願人：株式会社ニコン
• レチクルホルダ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-235688   出願人：株式会社ニコン