特許
J-GLOBAL ID:200903079748011006
投影光学系
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-031361
公開番号(公開出願番号):特開2000-231896
出願日: 1999年02月09日
公開日(公表日): 2000年08月22日
要約:
【要約】【課題】 新たな回転誤差や倍率誤差が生じることなく空間電荷効果を補正可能な投影光学系を提供する。【解決手段】 本投影光学系は、荷電粒子線照明を受けるレチクル1を通過した荷電粒子線を感応基板7上に投影結像させる装置である。この装置は、上下2段の投影レンズ2、4と、同じく上下2段のダイナミックフォーカスコイル5、6を備える。上下のダイナミックフォーカスコイル5、6のアンペアターン数の絶対値を等しくし符号(+-)を逆とする。また、上ダイナミックフォーカスコイル5のレンズ主面がレチクル1とクロスオーバ開口3の中点に一致し、上記下ダイナミックフォーカスコイル6のレンズ主面がクロスオーバ開口3とウエハ7の中点に一致する。
請求項(抜粋):
荷電粒子線照明を受けるレチクルを通過した荷電粒子線を感応基板上に投影結像させる投影光学系であって;上下2段の投影レンズと、同じく上下2段のダイナミックフォーカスコイルと、を備え、投影するパターン密度に応じて上記ダイナミックフォーカスコイルに電流を流してフォーカス補正を行う際に、上下のダイナミックフォーカスコイルのアンペアターン数の絶対値を等しくし符号(+-)を逆とすることを特徴とする投影光学系。
IPC (3件):
H01J 37/153
, G03F 7/20 504
, H01L 21/027
FI (4件):
H01J 37/153 Z
, G03F 7/20 504
, H01L 21/30 541 S
, H01L 21/30 541 B
Fターム (16件):
2H097BA01
, 2H097BB01
, 2H097CA16
, 2H097GB01
, 2H097LA10
, 5C033JJ01
, 5C033MM03
, 5F056AA16
, 5F056AA22
, 5F056AA27
, 5F056BA08
, 5F056CB18
, 5F056CB25
, 5F056CC14
, 5F056EA05
, 5F056FA07
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