特許
J-GLOBAL ID：200903079761956583

有機質汚染物で汚染された被処理物の洗浄方法および装置

発明者：
杉本 文利

杉本 文利 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-235055
公開番号（公開出願番号）：特開平10-079367
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：
【要約】【課題】 有機物質で汚染された基板を効率よく洗浄でき、基板に有機溶媒を残留付着させない基板洗浄方法と装置を提供する。【解決手段】 有機溶媒中に、当該有機溶媒のpHを変化させることなくアルカリ性あるいは酸性の雰囲気をつくることができる添加剤を加えたものを洗浄液3として使用し、この洗浄液3を気化させて当該有機溶媒および当該添加剤の混合蒸気をつくり、この混合蒸気を被処理物1と接触させて、当該被処理物1の表面から有機質の汚染物を洗浄除去する。
請求項（抜粋）：
有機溶媒中に、当該有機溶媒のpHを変化させることなくアルカリ性あるいは酸性の雰囲気をつくることができる添加剤を加えたものを洗浄液として使用し、この洗浄液を気化させて当該有機溶媒および当該添加剤の混合蒸気をつくり、この混合蒸気を被処理物と接触させて、当該被処理物の表面から有機質の汚染物を洗浄除去することを特徴とする被処理物の洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351 ,  B08B 3/00
FI (4件)：
H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 V ,  H01L 21/304 351 V ,  B08B 3/00
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 蒸気洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-099228   出願人：新日本製鐵株式会社
  • 特開昭49-010986
  • 特開昭63-010528

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