静電マイクロリレーおよびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-354827
公開番号（公開出願番号）：特開平11-185586
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】接点寿命が長いとともに、所望の接触荷重を確保でき、接触信頼性の高い静電マイクロリレーを提供することにある。【解決手段】可動接触片25の可動電極22の上面に中間絶縁膜23を介して補助ばね層24を形成する。さらに、前記中間絶縁膜23のうち、前記可動接点26の直上に位置する部分を部分的に除去して空隙部27を形成する。

請求項（抜粋）：

ベースの上面に固定電極および固定接点を配置する一方、前記ベースの上方で略平行に対向するアクチュエータの可動接触片の下面側に、前記固定電極に対向する可動電極を形成するとともに、この可動電極の下面に絶縁膜を介して前記固定接点に対向する可動接点を配置し、前記固定電極および可動電極間に電圧を印加して生じる静電引力で前記可動接触片を駆動し、前記可動接点を前記固定接点に接離する静電マイクロリレーにおいて、前記可動接触片が、前記可動電極の上面に中間絶縁膜を介して補助ばね層を積層するととともに、前記中間絶縁膜のうち、前記可動接点の直上に位置する部分を部分的に除去して空隙部を形成したことを特徴とする静電マイクロリレー。

前のページに戻る