特許
J-GLOBAL ID：200903079765258961
プラズマスピンドライ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
栂村 繁郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-282219
公開番号（公開出願番号）：特開平6-112188
出願日： 1992年09月29日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】温水を用いないでプラズマによる有機汚染物を灰化して除去する。【構成】プラズマ処理室の開口部を覆う移動可能な可能蓋に、ガス通過孔を設けたプラズマ励起室を有し、酸素を導入することができる電極を取付け、プラズマ処理室の電極と対向する位置に被乾燥物を保持する回転自在の回転枠を設け、プラズマ処理室の外周にヒータを設け、プラズマ処理室の上部に複数個の真空吸引口を開口し、真空吸引口の内周にリング状の水分侵入阻止材を設けて通路を形成したプラズマスピンドライ装置。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理室の開口部を覆う移動可能な可動蓋に、ガス通過孔を設けたプラズマ励起室を有し、酸素を導入することができる電極を取付けたことを特徴とするプラズマスピンドライ装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 361
, F26B 3/347
, F26B 5/04
, F26B 11/08
, G03F 1/08
