特許

J-GLOBAL ID：200903079765369550

処理粉体およびこれを含有する化粧料

発明者： 那須 昭夫 ,  吉田 邦彦 ,  須原 常夫 ,  南 孝司 ,  曽山 美和
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-150877
公開番号（公開出願番号）：特開平11-343424
出願日： 1998年06月01日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】 Si-H基を有するシリコーンの被覆密度を高めるとともに、未反応のSi-H基への反応化合物の付加量を高めた改質粉体を環境上安全に、かつ簡便に得、さらに、これを用いて化粧料、特に発色性、油分の酸化劣化防止効果に優れた化粧料を提供する。【解決手段】 Si-H基を有するシリコーン化合物を水系溶液に混合してなる水系混合溶液に粉体を接触させて該粉体表面をシリコーン被覆させ、次いで、該シリコーン化合物の未反応のSi-H基部分に、該Si-H基と反応することのできる化合物を低級アルコール中で付加させることにより得られる処理粉体、および該処理粉体を含有してなる化粧料。

請求項（抜粋）：

Si-H基を有するシリコーン化合物を水系溶液に混合してなる水系混合溶液に粉体を接触させて該粉体表面をシリコーン被覆させ、次いで、該シリコーン化合物の未反応のSi-H基部分に、該Si-H基と反応することのできる化合物を低級アルコール中で付加させることにより得られる、処理粉体。

IPC (6件)：

C09C 3/12 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/025 ,  C09C 1/24 ,  C09C 1/36

FI (6件)：

C09C 3/12 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 P ,  A61K 7/025 ,  C09C 1/24 ,  C09C 1/36

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平1-110540
  
• 処理粉体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-104418   出願人：株式会社資生堂
• 特開昭63-113081
  
• 特開昭63-168346
  

審査官引用 (5件)

• 特開平1-110540
  
• 特開平1-110540
  
• 処理粉体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-104418   出願人：株式会社資生堂
• 特開昭63-113081
  
• 特開昭63-168346