特許

J-GLOBAL ID：200903079768871842

有機EL素子製造に用いる真空蒸着用マスク装置

発明者： 土屋 輝直
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 乗松 恭三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-142178
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332056
出願日： 2002年05月16日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：

【要約】【課題】 有機EL素子製造における真空蒸着を生産性良く且つ高精細パターニングで実施可能なマスク装置を提供する。【解決手段】 金属マスク13には多数のマスク部15を形成すると共に四方に延びる取り付け部13bと差し込み部13cを設け、それを支持するためのベースプレート12にはその四辺に、スリット21を備えた巻付軸22を設けておき、スリット21に金属マスクの差し込み部13cを挿入し、巻付軸22を回転させて取り付け部13cを巻き上げることで金属マスク13をベースプレートに取り付けると共に金属マスクに縦横両方向のテンションを付与して、マスク部15をゆがみの無い状態にでき、これを用いて基板上に真空蒸着を行うことで、高精細なパターンを基板上に生産性よく形成できる。

請求項（抜粋）：

ベースプレートとそれに保持される金属マスクを備えた真空蒸着用マスク装置であって、前記金属マスクが、多数の微小なスリットを微小間隔で配列した構成のマスク部を配した領域と、その領域から四方に延びる取り付け部と、各取り付け部の先端を直角に折り曲げて形成した差し込み部を備えており、前記ベースプレートが、四辺にそれぞれ、前記金属マスクの差し込み部を挿入させるスリットを備えたマスク固定手段を備えており、向かい合った二辺の少なくとも一方に配置された前記マスク固定手段が、前記金属マスクの取り付け部を巻き上げて金属マスクにテンションを付加しうる巻付軸を備えていることを特徴とする、有機EL素子製造における真空蒸着用マスク装置。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  H05B 33/14 A

Fターム (7件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BD00 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04