特許
J-GLOBAL ID：200903079773915327
光パルス整形装置および光パルス整形方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-310315
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142592
出願日： 1991年11月26日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】光パルスの先端部のみならず後端部も急峻化することにより、高効率で超短パルスを得ることができる光パルス整形装置および光パルス整形方法提供する。【構成】光パルスを通過させる可飽和吸収体と、可飽和吸収体を通過してきた光パルスを可飽和吸収体に向かって位相共役に反射する位相共役鏡を有することを特徴とする光パルス整形装置。光パルスを可飽和吸収体に通過させて光パルスの先端部を急峻化し、通過した光パルスを、位相共役鏡により前記可飽和吸収体に向かって位相共役に反射し、再び前記可飽和吸収体を通過させることにより光パルスの先端部および後端部を急峻化することを特徴とする光パルス整形方法。
請求項（抜粋）：
光パルスを通過させる可飽和吸収体と、可飽和吸収体を通過してきた光パルスを可飽和吸収体に向かって位相共役に反射する位相共役鏡を有することを特徴とする光パルス整形装置。
IPC (3件)：
G02F 1/35
, G05D 25/02
, H04B 10/00
