焙煎装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水久義 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156110
公開番号（公開出願番号）：特開2001-333755
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：

【要約】【課題】チャフ排出孔が設けられた回転ドラムと該回転ドラムの中央部に設けられた熱源とを備えた焙煎装置であって、珈琲豆を効率よく焙煎することができる焙煎装置を提供する。【解決手段】周壁に複数のチャフ排出孔7aが設けられ、かつ長さ方向に延びる回転軸が水平となるように配置された回転ドラム7と、回転ドラム7の中央部に長さ方向に沿って設けられたヒータ9とを備え、回転ドラム7内に収容された珈琲豆を回転ドラムの回転に従って撹拌しながらヒータ9により焙煎するとともに、焙煎時に生じる珈琲豆のチャフを回転ドラム7のチャフ排出孔7aから排出する。回転ドラム7の周壁の外側に、反射材10が回転ドラム7の径方向最下部を除く周壁を上半周以上に亘って被覆する態様で設けられている。

請求項（抜粋）：

周壁に複数のチャフ排出孔が設けられ、かつ長さ方向に延びる回転軸が水平となるように配置された回転ドラムと、該回転ドラムの中央部に長さ方向に沿って設けられた熱源とを備え、前記回転ドラム内に収容された被焙煎物を回転ドラムの回転に従って撹拌しながら前記熱源により焙煎するとともに、焙煎時に生じる被焙煎物のチャフを前記回転ドラムのチャフ排出孔から排出する焙煎装置において、前記回転ドラムの周壁の外側に、反射材が回転ドラムの径方向最下部を除く周壁を上半周以上に亘って被覆する態様で設けられていることを特徴とする焙煎装置。

IPC (4件)：

A23N 12/10 , A23F 5/04 , A23L 1/20 , A23L 1/10

FI (4件)：

A23N 12/10 Z , A23F 5/04 , A23L 1/20 A , A23L 1/10 H

Fターム (16件)：

4B020LB24 , 4B020LG01 , 4B020LP06 , 4B023LG05 , 4B023LP07 , 4B023LT02 , 4B027FB21 , 4B027FQ02 , 4B061AA01 , 4B061AA02 , 4B061AB02 , 4B061AB06 , 4B061AB07 , 4B061BA09 , 4B061BB11 , 4B061BB17

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-215270
焙煎装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-060423 出願人：大阪ガスケミカル株式会社, 株式会社サミー
特公昭49-009750

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