特許

J-GLOBAL ID：200903079783749301

質量分析装置

発明者： 岸本 里志 ,  矢島 明 ,  西谷 英輔 ,  島村 英昭 ,  小林 秀 ,  内田 憲宏
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-022620
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222182
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 真空処理前・後(高真空排気時)および真空処理中(低真空時)の残留ガス分圧分析を、簡単な操作を介して単一の構成によって常時行うことができる質量分析装置の提供。【構成】(i)真空処理装置に接続された筐体を、真空処理装置に接続された一方の筐体と、該一方の筐体と気密を保持しつつ相対移動可能な他方の筐体とに分割し、(ii)前記真空処理装置に接続された一方の筐体に、ガス導入管を設け、(iii)前記他方の筐体に、イオン化機構部と前記分析部とを固着し、(iv)該他方の筐体に固着されたイオン化機構部に前記ガス導入管を、該イオン化機構部と前記分析部との間のイオン化された残留ガスの流通制限が可能なように挿脱可能に構成したこと。

請求項（抜粋）：

真空処理装置に接続された筐体内に、前記真空処理装置からの残留ガスをイオン化するイオン化機構部と、該イオン化された残留ガスを質量分析する分析部とを備え、該分析部の筐体壁に分析部を介した残留ガスを排気してサンプリングするポンプとを設けた質量分析装置において、(i)前記筐体を、前記真空処理装置に接続された一方の筐体と、該一方の筐体と気密を保持しつつ相対移動可能な他方の筐体とに分割し、(ii)前記真空処理装置に接続された一方の筐体に、ガス導入管を設け、(iii)前記他方の筐体に、イオン化機構部と前記分析部とを固着し、(iv)該他方の筐体に固着されたイオン化機構部に前記ガス導入管を、該イオン化機構部と前記分析部との間のイオン化された残留ガスの流通制限が可能なように挿脱可能に構成したことを特徴とする質量分析装置。

IPC (7件)：

H01J 49/26 ,  B01L 1/00 ,  G01N 27/62 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44

FI (7件)：

H01J 49/26 ,  B01L 1/00 C ,  G01N 27/62 F ,  H01L 21/203 S ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 B ,  H01L 21/302 B