特許

J-GLOBAL ID：200903079783838614

半導体用タングステンターゲットの製造装置

発明者： 石橋 孝幸 ,  師井 史郎 ,  濱名 孝徳
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-052871
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250426
出願日： 1995年03月13日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】半導体製造において使用されるタングステンのスパッタリングターゲットの製造装置を提供する。【構成】原料ガス導管3とこれに続く、多孔板4を底面とする中空円錐状の原料ガス吹き出し口5とからなる原料ガス供給部6、排気ガス排出部7、基板設置台9上にステンレス鋼からなる基板10を備えてなる反応容器2よりなり、原料ガス供給部6は反応容器2の上部略中央に位置し、排気ガス排出部7は反応容器2の側面に設け、この排気ガス排出部7と対向する側面に基板設置台9の出し入れ用扉8を有し、反応容器2底部に基板設置台9の摺動部を有し、反応容器2底部付近に加熱手段11を有し、特に、原料吹き出し口5が水平方向に回転する機構、および基板設置台9に基板回転機構を有する。

請求項（抜粋）：

原料ガス導管3とこれに続く、多孔板4を底面とする中空円錐状の原料ガス吹き出し口5とからなる原料ガス供給部6、排気ガス排出部7、基板設置台9上にステンレス鋼からなる基板10を備えてなる反応容器2よりなり、原料ガス供給部6は反応容器2の上部略中央に位置し、排気ガス排出部7は反応容器2の側面に設け、この排気ガス排出部7と対向する側面に基板設置台9の出し入れ用扉8を有し、反応容器2底部に基板設置台9の摺動部を有し、反応容器2底部付近に加熱手段11を有することを特徴とする半導体用タングステンターゲットの製造装置。

IPC (4件)：

H01L 21/203 ,  C22C 27/04 101 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/203 S ,  C22C 27/04 101 ,  C23C 14/34 A ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-005891   出願人：株式会社東芝
• 特公昭43-025373
  
• 特開平1-100913
  
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-040322   出願人：日本電気株式会社