特許
J-GLOBAL ID：200903079785698933
パターン検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-280741
公開番号（公開出願番号）：特開2006-091790
出願日： 2004年09月27日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】 設計データから高い近似度を持って参照データを高速で作成することができ、検査精度及び検査速度の向上をはかる。【解決手段】 設計データから参照データを作成する際に、画素を分割したサブ画素単位で、多角形により表わされる図形データをライン方向に走査して求めた交点の座標で定義される走査リスト若しくはサブ画素単位のビットマップを生成し、試料の透過率や位相分布に応じた像強度分布を部分コヒーレント結像の物理モデルに基づいて計算する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料上に形成された二次元パターンを撮像して得られる検査データと、前記二次元パターンに対応する設計データから得られる参照データとを、比較照合することによりパターンの欠陥検査を行うパターン検査方法であって、
前記設計データから複数の多角形で表現される図形データを入力する工程と、
分割数Nで画素を分割したサブ画素単位で前記多角形をライン方向に走査した時に始点と終点で定義される走査リストを作成する工程と、
Mを分割数Nより大きい整数、iを1からMまでの整数、jを画素ライン番号としてi+N×j番目に当たる第1のラインと(M+1-i)+N×j番目に当たる第2のラインに対して、第1のラインに属する走査リストの始点及び終点の近傍に含まれる第2のライン上のサブ画素が第2のラインに属する走査リストに含まれているか否かによって異なる値を選択し、該選択された値を第1のラインの始点近傍のサブ画素及び終点近傍のサブ画素にそれぞれ累積する処理を、iを1ずつ増やしながら繰り返す工程と、
前記始点近傍及び終点近傍のサブ画素に対する累積処理が行われた各ラインを端から順次累積加算する工程と、
前記累積加算された各ラインに対し、Nサブ画素毎にダウンサンプリングすることにより、ライン毎の画素単位の濃淡値データを生成する工程と、
前記濃淡値データに点応答関数をコンボリューションする工程と、
を含むことを特徴とするパターン検査方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01N 21/956
, G06T 1/00
, H01L 21/027
G03F1/08 S
, G01N21/956 A
, G06T1/00 305A
, H01L21/30 502V
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AC04
, 2G051EA08
, 2G051EA09
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051ED01
, 2G051ED08
, 2G051ED22
, 2H095BD02
, 2H095BD17
, 2H095BD24
, 2H095BD28
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057BA19
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC09
, 5B057DC33
