特許

J-GLOBAL ID：200903079795034740

フォトソルダーレジスト

発明者： 岡崎 栄一 ,  太田 博之
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-278489
公開番号（公開出願番号）：特開平8-123027
出願日： 1994年10月18日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 未硬化皮膜がアルカリ水溶液に易溶性でかつ活性エネルギー線に対して高感応性であり、しかも硬化皮膜が硬度、密着性、耐熱性、耐溶剤性および耐薬品性に優れるフォトソルダーレジストの提供。【構成】 1分子中に平均で4.0〜5.6個の(メタ)アクリロイル基と0.4〜2.0個の水酸基を有するジペンタエリスリトール誘導体と、無水フタル酸または無水マレイン酸とを反応させて得られる、酸価が40〜100mgKOH/gの重合性組成物からなるフォトソルダーレジスト。

請求項（抜粋）：

1分子中に平均で4.0〜5.6個の(メタ)アクリロイル基と0.4〜2.0個の水酸基を有するジペンタエリスリトール誘導体と、無水フタル酸または無水マレイン酸とを反応させて得られる、酸価が40〜100mgKOH/gの重合性組成物からなるフォトソルダーレジスト。

IPC (9件)：

G03F 7/038 505 ,  C08F220/26 MMB ,  C08F222/06 MLU ,  C08F299/04 MRT ,  C08G 59/40 NKH ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28