特許
J-GLOBAL ID：200903079801170103
薄膜製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-109230
公開番号（公開出願番号）：特開平10-298758
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：
【要約】【課題】 真空で走行されるベースフィルムにシワが発生するのを防止し、かくして一定な膜厚で薄膜を製造することを可能にする方法及び装置の提供。【解決手段】 ベースフィルム111を真空中で走行させ、成膜領域103の前後何れか若しくは双方において、ベースフィルムを電極112を用いた気体放電によるプラズマに接触させる。
請求項（抜粋）：
成膜領域を介して真空中でベースフィルムを走行させることにより薄膜を製造するための方法であって、前記成膜領域の前及び/又は後で前記ベースフィルムをプラズマに接触させることを特徴とする、薄膜製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/56 E
, G11B 5/85 Z
