特許

J-GLOBAL ID：200903079803126446

アリールシリルエーテル化合物の脱シリル化方法およびフェノール基含有ケイ素化合物の製造方法

発明者： 尼子 雅章 ,  大川 直
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-259258
公開番号（公開出願番号）：特開2000-072781
出願日： 1998年08月28日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】 生産性よくアリールシリルエーテル化合物の脱シリル化を行う方法および副反応を起こすことなく選択的にフェノール基含有ケイ素化合物を製造する方法を提供することにある。【解決手段】 1分子中に少なくとも1個のトリオルガノシロキシアリール基を有する有機ケイ素化合物を、アミン化合物またはアンモニアを触媒としてプロトン性溶媒の存在下で脱シリル化することを特徴とする、アリールシリルエーテル化合物の脱シリル化方法。

請求項（抜粋）：

1分子中に少なくとも1個のトリオルガノシロキシアリール基を有する有機化合物を、アミン化合物またはアンモニアを触媒としてプロトン性溶媒の存在下で脱シリル化することを特徴とする、アリールシリルエーテル化合物の脱シリル化方法。

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/02 ,  C08G 77/38

FI (3件)：

C07F 7/08 X ,  C07F 7/02 Z ,  C08G 77/38

Fターム (41件)：

4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ17 ,  4H049VQ19 ,  4H049VQ30 ,  4H049VQ57 ,  4H049VQ78 ,  4H049VQ79 ,  4H049VQ87 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VS20 ,  4H049VS30 ,  4H049VS57 ,  4H049VS78 ,  4H049VS79 ,  4H049VS87 ,  4H049VT32 ,  4H049VT36 ,  4H049VT40 ,  4H049VT43 ,  4H049VT48 ,  4H049VT49 ,  4H049VV05 ,  4H049VV08 ,  4H049VV20 ,  4H049VW02 ,  4H049VW33 ,  4J035BA01 ,  4J035CA08M ,  4J035CA08N ,  4J035CA081 ,  4J035CA25U ,  4J035FB01 ,  4J035FB02 ,  4J035FB03 ,  4J035LA05