特許
J-GLOBAL ID：200903079809429211
ポジ型フオトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-302218
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142770
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 解像度、耐ドライエッチング性、耐熱性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド化合物を含むポジ型フォトレジスト組成物において、アルカリ可溶性ノボラック樹脂がフェノール類とホルムアルデヒドとを付加縮合反応させることによって製造されるノボラック樹脂であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000の範囲でかつ分散度が2.0以下であるポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド化合物を含むポジ型フォトレジスト組成物において、アルカリ可溶性ノボラック樹脂がフェノール類とホルムアルデヒドとを付加縮合反応させることによって製造されるノボラック樹脂であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が3000〜15000の範囲でかつ分散度が2.0以下であるポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/023 511
, H01L 21/027
