特許
J-GLOBAL ID：200903079810059720
パターン検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-291652
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128237
出願日： 1991年11月07日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】 入りくんだ形状や近接、密集したパターン中の欠陥の検出を可能にして欠陥検出能力の向上を図る。【構成】 同期性のあるパターンが形成された被検査物の画像をテレビカメラによって左右の画面に取り込む(ステップ?@)。この取り込んだ各多値画像5,6について所定のしきい値で2値化してパターンの輪郭部分を抽出する(ステップ?A)。これら2値画像7,8間の同座標画素同士の排他的論理和演算を行う(ステップ?B)。その結果得られた排他的論理和画像9の所定基準以下の微小な差異に係る部分9bをもとの2値画像7,8から削除する(ステップ?C)。これにより得られた2値画像10,11同士を比較演算してパターンの不整を検出する(ステップ?D)。
請求項（抜粋）：
同期性のあるパターンが形成された2つの被検査物の画像をそれぞれ対応する画面に取り込み、この取り込んだ各画像について所定のしきい値で2値化してパターンの輪郭部分を抽出し、これら2値画像間の同座標画素同士の排他的論理和演算を行い、その結果得られた排他的論理和画像の所定基準以下の微小差異部分をもとの2値画像から削除し、これにより得られた2値画像同士を比較演算してパターンの不整を検出することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2件)：
G06F 15/62 405
, G06F 15/70 460
