特許

J-GLOBAL ID：200903079818071893

ノズル清掃装置

発明者： 五十嵐 章雄 ,  中村 秀男 ,  宮本 芳次
出願人/特許権者： 株式会社 日立インダストリイズ
代理人 (2件)： 作田 康夫 ,  井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-307564
公開番号（公開出願番号）：特開2006-116441
出願日： 2004年10月22日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】 保守が容易でかつ塗布装置の使用環境を汚染することのない、高粘度のペーストでも確実にノズルの先端を清掃する装置を実現する必要がある。 【解決手段】 そのため、本発明のノズル清掃装置は、上部にノズルの長さ以上の空間を設けたノズル清掃装置本体の上部をラテックスの薄膜で覆い、ラテックス薄膜をその張力を維持するように金具で固定し、ラテックス薄膜にノズルを押し込むことによって該薄膜をノズル表面に密着させてノズルに付着したペーストをラテックス薄膜表面に転写させることを特徴とする。 【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

上部にノズルの長さ以上の空間を設けたノズル清掃治具本体の上部をラテックス薄膜で覆い、前記ラテックス薄膜の所定の張力を作用させて保持し固定金具で固定し、前記ラテックス薄膜上にノズルを押し下げて、前記ノズルをラテックス薄膜表面に密着させることによってノズルに付着したペーストを薄膜に転写させることを特徴とするノズル清掃装置。

IPC (4件)：

B05C 11/10 ,  B05C 5/00 ,  B08B 1/00 ,  B08B 9/023

FI (4件)：

B05C11/10 ,  B05C5/00 101 ,  B08B1/00 ,  B08B9/02 D

Fターム (17件)：

3B116AA18 ,  3B116AB33 ,  3B116AB37 ,  3B116BA01 ,  3B116CD41 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38 ,  4F041BA60 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AB00 ,  4F042BA06 ,  4F042CC08 ,  4F042DH02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ペースト塗布機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-266125   出願人：日立テクノエンジニアリング株式会社