特許
J-GLOBAL ID:200903079824016845
粉体単層皮膜積層体の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-174987
公開番号(公開出願番号):特開2001-347588
出願日: 2000年06月12日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、微粒子粉体を用いた場合でも、フィルム状基体に設けた粘着層表面に、粉体の均一な単層皮膜を、高い生産性で形成する方法を提供するものである。【解決手段】 長尺のフィルム状基体上の粘着層表面に、その一部が突出する状態で単層に埋め込まれた多数の粉体からなる粉体単層皮膜を形成した粉体単層皮膜積層体の製造方法であって、?@基体の少なくとも一方の面に粘着層を設ける第1工程と、?A前記粘着層を有する基体の少なくとも粘着層を、容器中で振動させている粉体とメデイアに接触させ、粘着層表面にその一部が突出する状態で単層に粉体を埋め込み積層体を得る第2工程と、?B前記工程で得た積層体に付着した余剰な粉体を除去する第3工程、とを具備する粉体単層皮膜積層体の製造方法。
請求項(抜粋):
長尺のフィルム状基体上の粘着層表面に、その一部が突出する状態で単層に埋め込まれた多数の粉体からなる粉体単層皮膜を形成した粉体単層皮膜積層体の製造方法であって、?@基体の少なくとも一方の面に粘着層を設ける第1工程と、?A前記粘着層を有する基体の少なくとも粘着層を、容器中で振動させている粉体とメデイアに接触させ、粘着層表面にその一部が突出する状態で単層に粉体を埋め込み積層体を得る第2工程と、?B前記工程で得た積層体に付着した余剰な粉体を除去する第3工程、とを具備することを特徴とする粉体単層皮膜積層体の製造方法。
IPC (5件):
B32B 5/16
, B32B 9/00
, B32B 27/04
, G02B 1/11
, G02B 5/02
FI (5件):
B32B 5/16
, B32B 9/00 A
, B32B 27/04 Z
, G02B 5/02 B
, G02B 1/10 A
Fターム (51件):
2H042BA02
, 2H042BA15
, 2H042BA19
, 2H042BA20
, 2K009AA02
, 2K009AA12
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009BB28
, 2K009CC03
, 2K009CC06
, 2K009CC09
, 2K009CC14
, 2K009CC23
, 2K009CC24
, 2K009CC33
, 2K009CC35
, 2K009CC42
, 2K009DD01
, 2K009DD02
, 2K009DD15
, 2K009EE03
, 4F100AB02
, 4F100AB10
, 4F100AK01A
, 4F100AK01D
, 4F100AK25G
, 4F100AK41G
, 4F100AK42
, 4F100AK45
, 4F100AR00B
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100CB05
, 4F100DD07C
, 4F100DE01C
, 4F100EC042
, 4F100EC182
, 4F100EG002
, 4F100EH032
, 4F100EH462
, 4F100EH612
, 4F100EJ252
, 4F100EJ302
, 4F100EJ852
, 4F100EJ862
, 4F100GB90
, 4F100JL02
, 4F100JL11B
, 4F100JM02C
引用特許:
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