特許
J-GLOBAL ID：200903079829544807

2-置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法

発明者：
斉藤 嘉則

斉藤 嘉則 について

, 
杉野 文俊

杉野 文俊 について


出願人/特許権者：
イハラケミカル工業株式会社

イハラケミカル工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-066934
公開番号（公開出願番号）：特開平8-231537
出願日： 1995年03月01日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：
【要約】【構成】一般式【化1】(式中、X1はハロゲン原子を表し、X2はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、または水素原子を示し、nは1〜4の整数を示す。)で表される化合物と硫化アルカリ金属および硫黄、または多硫化アルカリ金属とを反応させ、その反応混合物と一般式【化2】(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはシアノ基を表す。)で表される化合物とを反応させて2-置換ベンゾ[b]チオフェンを製造するにあたり、溶媒としてエチレングリコール系溶媒を用いることを特徴とする、一般式【化3】(式中、X2、n、およびRは前記と同じ意味を示す。)で表される2-置換ベンゾ[b]チオフェンの製造方法。【効果】硫化アルカリ金属または多硫化アルカリ金属が無水物でも含水物でも使用可能であり、原料の脱水処理といった煩雑な前処理が不要で操作性が高まり原料の入手容易性も高まった。しかも、目的物の収率は従来の方法に劣らない。
請求項（抜粋）：
一般式【化1】(式中、X1はハロゲン原子を表し、X2はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、または水素原子を示し、nは1〜4の整数を示す。)で表される化合物と硫化アルカリ金属および硫黄、または多硫化アルカリ金属とを反応させ、その反応混合物と一般式【化2】(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、またはシアノ基を表す。)で表される化合物とを反応させて2-置換ベンゾ[b]チオフェンを製造するにあたり、溶媒としてエチレングリコール系溶媒を用いることを特徴とする、一般式【化3】(式中、X2、n、およびRは前記と同じ意味を示す。)で表される2-置換ベンゾ[b]チオフェンの製造方法。
IPC (2件)：
C07D333/56 ,  C07D333/70
FI (2件)：
C07D333/56 ,  C07D333/70
引用特許：
審査官引用 (4件)
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