特許
J-GLOBAL ID：200903079829773776
大電流リボンビーム注入装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-506065
公開番号（公開出願番号）：特表2000-505234
出願日： 1997年07月01日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：
【要約】コンパクトな大電流幅広ビームイオン注入装置は、高電流密度源、ビームを一定の方向に向けて軌道をまっすぐにする曲がっている磁石、及びおそらく一様でないワークピース輸送アセンブリと共に均一な注入量を生む正確な一次元ビーム電流分布を調整するためにビーム経路全体に伸びている多極装置を使用する。実施例において、多極ユニットは、磁石を曲げる出力表面に隣接して配置される別々の磁石アセンブリであり、密接に間隔を置かれた極素子の1または複数の列を含み、その素子の上のビーム通過の狭帯域に影響を及ぼすために各極素子の駆動電流または位置が変化させられるように制御される。他の実施例では、曲がっている磁石は分解スリットを通して所望の種を配向する解析磁石であり、ビームを平行にしてビームの幅寸法に沿って更にそれを訂正している間、第2の磁石は結果として生じるビームを偏向させる。第1の実施例と同様に、多極素子は、導き出された分布に合うように調整される。両方の磁石は、好ましくは比較的大きな極ギャップ、幅の広い入力及び出力表面を有して、湾曲の小さい半径を通して不安定性がないビームを発生させるために一方にそれる。多極素子は、好ましくは下流側で双極子に隣接するか組み込まれ、幅寸法に沿ってビーム電力を移動するために作動し、ビーム電流密度が所望の分布を達成するよう局所的に調整する。増加する角度で指向されるブレード極を有する電磁石のような別々の多極配列は、入射ビームを調節できる。
請求項（抜粋）：
ターゲットにイオンビームを均一に注入する装置であって、所望種のイオンを含みビーム路に沿って少なくとも一方向に発散するイオンビームを発生するイオン源(2)と加工体をある速度分布を有する速度にて前記イオンビーム中を移動させるに有効な加工体移送体とにインターフェース結合されており、イオンビーム(1a)を受け入れてそれを湾曲して前記所望種を200ミリメートルを越えるをもつ主横断方向寸法リボン状の出力ビーム(1b)に形成し、該出力ビームのイオンを約1度内で平行にする単一の双極磁石(3)を備えるイオンビーム注入装置において、 前記ビーム路を実質的に完全に横切って延在し、前記双極磁石(3)とともに所望の電流分布(プロファイル)を有する前記出力ビームを形成する調節可能な多極イオンレンズ(35)と、 注入位置近傍における前記出力ビーム(1b)の電流密度の測定値に応答して、収差を変更して所望の分布からの変動を低減するように前記イオンレンズ(35)の磁極要素を設定するための手段(36)とを備え、前記所望の分布が前記速度分布と相補正をなしており、実質的に均一適用量のイオンを加工体中に注入するのに有効であることを特徴とするイオンビーム注入装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
H01J 37/317 Z
, H01L 21/265 T
, H01L 21/265 603 B
