特許
J-GLOBAL ID：200903079845139432
フォトリソグラフィー工程の現像処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田北 嵩晴
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-041387
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223523
出願日： 1997年02月12日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウエハ基板を昇温させ、且つ現像処理中もウエハ基板上の現像液温度を所定温度にする事により寸法制御性の良好な現像処理方法を提供する。【解決手段】 現像カップ1には、カップ自体に電熱ヒーター9か、もしくはカップ内に昇温された空気を送風するかでカップ内を所定温度に昇温し、恒温保持を行う。カップ1内のウエハチャック2上にウエハ基板3を載置、保持し、ウエハチャック2は電熱ヒーター11により昇温可能とする。現像液8については、キャニスターから圧送された現像液を一時的に貯蔵、通過する配管を外周に電熱ヒーター10を巻いた恒温槽6で昇温する。又、併せて恒温槽6から吐出ノズル5までの圧送中の現像液の温度低下を防止する為、配管中に電熱ヒーターを設けるか、もしくはウォータージャケットにより昇温、恒温化を行う。
請求項（抜粋）：
半導体装置のフォトリソグラフィー工程にて、ポジ型レジスト塗布を行い、引続いて露光を行った後にアルカリ水溶液を用いて現像を行い、続いて純水洗浄にてリンス処理を行うフォトリソグラフィー工程の現像処理方法において、ウエハを載置した後に真空吸着にてウエハを保持する回転自在のウエハチャックに加熱機構を設け、現像処理すべきカップ内に設ける工程と、該ウエハチャック上の保持されたウエハ基板を現像処理すべきカップに加熱機構を設けて恒温加熱する工程と、該ウエハ基板上に、現像処理時に吐出すべきアルカリ水溶液を加熱機構を備えた恒温槽を経由して昇温させる工程と、前記ウエハチャック上のウエハ表面温度、カップ内雰囲気温度、ならびに現像液温度が同一であり、且つ設定温度範囲が35°C以上、60°C以下からなる範囲の任意設定温度条件下にてアルカリ水溶液による現像処理、ならびに純水によるリンス洗浄処理が行われる事を特徴とするフォトリソグラフィー工程の現像処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
H01L 21/30 569 C
, G03F 7/30 502
, H01L 21/30 569 F
