特許

J-GLOBAL ID：200903079846628941

多元真空蒸着装置

発明者： 藤井 悦司 ,  早川 博敏 ,  加来 久幸
出願人/特許権者： 株式会社安川電機
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-117955
公開番号（公開出願番号）：特開平5-287512
出願日： 1992年04月10日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【構成】 1個の電子銃と、磁石によりフィラメントの中心とるつぼの中心を結んだ線(X軸)およびX軸と垂直に交わるY軸方向とに偏向し、目的の場所に照射させるコントローラーと、X軸上に設置された複数のるつぼと、少なくとも2枚の磁性体の板(ポール・ピース)がX軸に対称に、磁性体の相対する辺が平行になるように、るつぼの近傍に配置されている。【効果】 1個の電子ビームで複数の材料を安定して蒸着できる。電子ビームを発生させるためのフィラメントと高圧電源の数が少ないため、装置の設地面積が狭くても良く、また蒸発源の信頼性が高い。

請求項（抜粋）：

真空排気可能な真空容器内で、加熱されたフィラメントより発生した熱電子をフィラメントの近傍に設置された一対の電極に高電圧を印加することで加速し、電子ビームを発生させる1個の電子銃と、永久磁石或は電磁石等によりフィラメントの中心とるつぼの中心を結んだ線(以下:X軸)およびX軸と垂直に交わるY軸方向とに偏向し、目的の場所に照射させるコントローラーと、X軸上に設置された複数のるつぼからなる真空蒸着装置において、少なくとも2枚の磁性体の板(以下:ポール・ピース)がX軸に対称に、磁性体の相対する辺が平行になるように、るつぼの近傍に配置されていることを特徴とする多元真空蒸着装置。