X線源の出力を制御し、かつ、最適化するための方法とその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-538151
公開番号（公開出願番号）：特表2000-501552
出願日： 1997年04月14日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】直線的断層撮影検査中に関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するようにX線源の出力を制御するための方法。この方法は、断層撮影走査パラメータを選択する処理過程(501、502)と、選択された断層撮影走査パラメータに少なくとも一部分は基づいて1組のX線源制御パラメータを予測する処理過程(503、504、505)と、そして関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するために上記1組のX線源制御パラメータ(508)にしたがッてX線源出力を制御する処理過程とから成る。X線源の出力を制御するための装置も開示されている。

請求項（抜粋）：

直線形断層撮影検査中に関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するようにX線源の出力を制御するための方法において、(a)断層撮影走査パラメータを選択する処理過程と、(b)前記選択された断層撮影走査パラメータに少なくとも一部分は基づいて1組のX線源制御パラメータを予測する処理過程と、そして(c)前記関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するために前記1組のX線源制御パラメータにしたがってX線源出力を制御する処理過程とを有する、X線エネルギーを最適化するようにX線源の出力を制御するための方法。

IPC (3件)：

H05G 1/46 , A61B 6/02 301 , G21K 5/02

FI (3件)：

H05G 1/46 , A61B 6/02 301 D , G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (6件)

特公昭58-020117
特開昭63-274095
特開昭62-186847

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