特許
J-GLOBAL ID:200903079855585511

スパッタリングターゲット、スパッタリング装置およびスパッタリング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-044073
公開番号(公開出願番号):特開平11-236663
出願日: 1998年02月25日
公開日(公表日): 1999年08月31日
要約:
【要約】【課題】 スパッタリング装置において、スパッタリングターゲットから叩き出された原子の一部がスパッタリングターゲットに膜として付着した場合に、この付着した膜の剥がれを抑制する。【解決手段】 スパッタリングターゲット1として、側面にブラスト処理が施されたものを使用し、膜の剥がれを抑制する。
請求項(抜粋):
ブラスト処理がなされた側面を有することを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (2件):
C23C 14/34 ,  H01L 21/203
FI (3件):
C23C 14/34 B ,  C23C 14/34 C ,  H01L 21/203 S

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