特許
J-GLOBAL ID：200903079859177671
酸化チタン被膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-290870
公開番号（公開出願番号）：特開平10-139482
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】【課題】 硫酸チタニルの加水分解を利用した液相析出法による酸化チタン被膜の形成方法を提供する。【解決手段】 硫酸チタニル水溶液中に基材を浸漬し、上記硫酸チタニルの加水分解反応により基材表面に酸化チタン被膜を形成させる。上記硫酸チタニル水溶液における硫酸チタニルの濃度が0.01〜0.5mol/Lの範囲であって、上記硫酸チタニル水溶液の加水分解反応を40°C以上で行う。
請求項（抜粋）：
硫酸チタニル水溶液中に基材を浸漬し、上記硫酸チタニルの加水分解反応により基材表面に酸化チタン被膜を形成させることを特徴とする酸化チタン被膜の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03C 17/25 A
, C01G 23/053
