特許

J-GLOBAL ID：200903079866325295

毛髪化粧料

発明者： 渡辺 太一 ,  阿部 裕子 ,  亀谷 潤
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-239569
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087721
出願日： 1992年09月08日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【構成】 (A)アニオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上の界面活性剤2〜40重量%、(B)不溶性不揮発性シリコーン類0.01〜10重量%、並びに(C)(a)一般式(1)で示される繰り返し単位を100〜20000有する両性ポリマー及び【化1】(b)一般式(2)で示される四級化された繰り返し単位5〜40モル%、一般式(3)で示される両性化された繰り返し単位40〜90モル%、及び一般式(4)で示される繰り返し単位5〜40モル%からなるカチオン/両性ポリマー【化2】から選ばれる1種又は2種以上のポリマー0.01〜5重量%を含有する毛髪化粧料。【効果】 コンディショニング効果及び整髪効果に優れたものである。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)〜(C):(A)アニオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上の界面活性剤 2〜40重量%(B)不溶性不揮発性シリコーン類 0.01〜10重量%(C)成分(a)及び(b)から選ばれる1種又は2種以上のポリマー 0.01〜5重量%(a)一般式(1)で示される繰り返し単位を100〜20000有する両性ポリマー【化1】(式中、R1 は水素原子又はメチル基を示し、R2 及びR3 は炭素数1〜4のアルキレン基を示し、A1 は酸素原子又はNHを示す)(b)一般式(2)で示される四級化された繰り返し単位5〜40モル%、一般式(3)で示される両性化された繰り返し単位40〜90モル%、及び一般式(4)で示される繰り返し単位5〜40モル%からなるカチオン/両性ポリマー【化2】〔式中、R4 及びR7 は水素原子又はメチル基を示し、R5 、R8 及びR9 は炭素数1〜4のアルキレン基を示し、R6 は炭素数1〜4のアルキル基、ベンジル基、2-ヒドロキシエチル基、2,3-エポキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基又は次式【化3】(式中、nは1〜9の整数を示す)で表わされる基を示し、A2 及びA3 は酸素原子又はNHを示し、Xはハロゲン原子又はアルキル硫酸残基を示す〕を含有する毛髪化粧料。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-036226
  
• 特開平4-095017
  
• 特開平2-172907
  
• 特開平4-164016